Thin Layers

Thin layers are prepared by magnetron sputtering by using the commercially available LEYBOLD-HERAEUS Z 550 sputtering device. This device enables one to produce smaller batches or single pieces with maximum diameter of 100 mm and thickness less then 20 mm. It is equipped with three magnetrons with targets of 152 mm in diameter (the typical target thickness is 6 mm) which enables the deposition of three different materials without interrupting the vacuum. To meet special demands it is possible to apply some voltage to the substrate (bias sputtering, plasma etching) or to heat the substrate by using an infra-red radiator. Any materials which can be shaped as a disc of 152 mm in diameter and 1 – 6 mm thick can be deposited. The thickness of the deposited layers ranges from the unit of nanometers to the unit of micrometers, only for materials having a very low speed of sputtering, e.g. oxides, the upper limit lies in the region of hundreds of nanometers.

The following targets are available at our laboratory: Al, Si, Mo, Ti, Ni, Ag, C, ITO, Nb, Zr, W, Y__2__O3, Al__2__O3, SiO2, TiO2. and we are able to prepare the following layers: Al, Al__2__O3, AlN, Si, SiO2, Si__3__N4, Mo, Ni, NiN__x__, TiO2, Ti, Ti__3__N4, TiN__x__, Ag, Nb, NbN, Zr, ZrN, W, ITO (90%In + 10%Sn), C, C:N, Y__2__O3.

Also multilayers composed of the above mentioned materials can be deposited. We deposit X-ray molybdenum/silicon multilayer system, which can be used in the range from about 12 – 30 nm.

We use an impact test to evaluate the impact resistance of hard coatings. The impact test offers an important new method for determination of the fracture toughness of hard thin films.

  • Multivrstvy pro rentgenovou optiku

    Řez Mo/Si multivrstvou deponovanou v naší laboratoři (TEM)
    Aktualizováno před 6 let 17 týdnů

    Deponujeme multivrstvové molybden/křemíkové systémy, které mohou být požity pro rentgenové záření v rozmezí vlnových délek od 12 nm do 30 nm. Maximální hodnoty odrazivosti dosahují až 70 % pro kolmý dopad.

  • Dynamické rázové testování tenkých vrstev

    Dynamické rázové testování tenkých vrstev - detail
    Aktualizováno před 6 let 17 týdnů

    V současné době jsme jedním ze dvou pracovišť v Česku, které nabízí charakterizaci tvrdých otěruvzdorných povlaků dynamickým rázovým testerem.

    Pro charakterizaci odolnosti tvrdých otěruvzdorných nanokompozitových a multivrstvových povlaků a…

  • Depozice a testování tenkých vrstev

    Řez Mo/Si multivrstvou deponovanou v naší laboratoři (TEM)
    Aktualizováno před 6 let 17 týdnů

    Tenké vrstvy připravujeme pomocí magnetronového naprašování na komerční naprašovačce LEYBOLD-HERAEUS Z 550. Může být naprašován jakýkoliv materiál, ze kterého je možné vyrobit terč s výše uvedenými rozměry. Rozmezí tlouštěk deponovaných vrstev je od…