rentgen

Depozice tenkých vrstev magnetronovým naprašováním

Řez Mo/Si multivrstvou deponovanou v naší laboratoři (TEM)

Tenké vrstvy připravujeme pomocí magnetronového naprašování na komerční naprašovačce LEYBOLD-HERAEUS Z 550. Toto zařízení umožňuje produkovat malé série nebo jednotlivé kusy s maximálním průměrem 100 mm a tloušťkou 20 mm. Naprašovačka je vybavena třemi magnetrony s průměrem terče 152 mm (typická tloušťka terče je 6 mm) pro naprašování až tří různých materiálů během jednoho vakuového cyklu.

Thin Layers

Thin layers are prepared by magnetron sputtering by using the commercially available LEYBOLD-HERAEUS Z 550 sputtering device. This device enables one to produce smaller batches or single pieces with maximum diameter of 100 mm and thickness less then 20 mm. It is equipped with three magnetrons with targets of 152 mm in diameter (the typical target thickness is 6 mm) which enables the deposition of three different materials without interrupting the vacuum. To meet special demands it is possible to apply some voltage to the substrate (bias sputtering, plasma etching) or to heat the substrate by using an infra-red radiator. Any materials which can be shaped as a disc of 152 mm in diameter and 1 – 6 mm thick can be deposited. The thickness of the deposited layers ranges from the unit of nanometers to the unit of micrometers, only for materials having a very low speed of sputtering, e.g. oxides, the upper limit lies in the region of hundreds of nanometers.

Syndicate content