Sputtering

Vytváření tenkých vrstev.

Depozice tenkých vrstev magnetronovým naprašováním

Řez Mo/Si multivrstvou deponovanou v naší laboratoři (TEM)

Tenké vrstvy připravujeme pomocí magnetronového naprašování na komerční naprašovačce LEYBOLD-HERAEUS Z 550. Toto zařízení umožňuje produkovat malé série nebo jednotlivé kusy s maximálním průměrem 100 mm a tloušťkou 20 mm. Naprašovačka je vybavena třemi magnetrony s průměrem terče 152 mm (typická tloušťka terče je 6 mm) pro naprašování až tří různých materiálů během jednoho vakuového cyklu.

Účast na 52. Mezinárodním strojírenském veletrhu MSV 2010 Brno

MSV 2010 - Ing. Vlček u elektronové svářečky

Ústav přístrojové techniky AV ČR, v.v.i. bude ve dnech 13. až 17. září 2010 vystavovat na 52. mezinárodním strojírenském veletrhu v Brně – PAV A1 023. Skupina Speciální technologie se bude prezentovat elektronovou svářečkou MEBW-60/2-E v provozu, expozicí příkladů svarů vyrobených elektronovou svářečkou, vakuovými průchodkami a vzorky nanovrstev a RTG optiky.

Rádi Vás uvidíme na našem stánku!

Multilayer X-ray Optics - Periodic X-ray multilayers

We deposit X-ray molybdenum/silicon multilayer system, which can be used in the range from about 12 – 30 nm. Peak reflectance values are approaching 70% for normal incidence.

At very short X-ray wavelengths (wavelengths below about 4 nm) efficient normal incidence multilayers cannot be produced because interface roughness cause too much reduction in the reflectance. However periodic multilayers can still be used at near grazing incidence. They provide high reflectance at graze angles that are much larger than what can be achieved with single-layer coatings.

Testing of the Impact Load of Thin Hard Nanocomposite, Multilayer and Monolayer Coatings

To evaluate the impact resistance of thin hard nanocomposite, multilayer and monolayer coatings in dynamic loading wear applications an impact test has been used. An impact testing of the coatings was proposed by Knotek et al in the 1990s. During testing the specimen is cyclically loaded by tungsten carbide ball that impacts of the coating/substrate surface. The test simulates a wide range of tribological systems.

Thin Layers

Thin layers are prepared by magnetron sputtering by using the commercially available LEYBOLD-HERAEUS Z 550 sputtering device. This device enables one to produce smaller batches or single pieces with maximum diameter of 100 mm and thickness less then 20 mm. It is equipped with three magnetrons with targets of 152 mm in diameter (the typical target thickness is 6 mm) which enables the deposition of three different materials without interrupting the vacuum. To meet special demands it is possible to apply some voltage to the substrate (bias sputtering, plasma etching) or to heat the substrate by using an infra-red radiator. Any materials which can be shaped as a disc of 152 mm in diameter and 1 – 6 mm thick can be deposited. The thickness of the deposited layers ranges from the unit of nanometers to the unit of micrometers, only for materials having a very low speed of sputtering, e.g. oxides, the upper limit lies in the region of hundreds of nanometers.

Syndicate content