Depozice tenkých vrstev magnetronovým naprašováním

Řez Mo/Si multivrstvou deponovanou v naší laboratoři (TEM)

Tenké vrstvy připravujeme pomocí magnetronového naprašování na komerční naprašovačce LEYBOLD-HERAEUS Z 550. Toto zařízení umožňuje produkovat malé série nebo jednotlivé kusy s maximálním průměrem 100 mm a tloušťkou 20 mm. Naprašovačka je vybavena třemi magnetrony s průměrem terče 152 mm (typická tloušťka terče je 6 mm) pro naprašování až tří různých materiálů během jednoho vakuového cyklu.

Pro speciální účely je možné přivést na substrát elektrické napětí (naprašování s předpětím, iontové leptání) nebo substrát ohřívat. Může být naprašován jakýkoliv materiál, ze kterého je možné vyrobit terč s výše uvedenými rozměry. Rozmezí tlouštěk deponovaných vrstev je široké, od jednotek nanometrů po jednotky mikrometrů, jen u materiálů s velmi nízkou depoziční rychlostí, např. oxidů, leží limit pro maximální tloušťky vrstev v oblasti stovek nanometrů.

V naší laboratoři jsou dostupné terče z následujících materiálů: Al, Si, Mo, Ti, Ni, Ag, C, ITO, Nb, Zr, W, Y__2__O3, Al__2__O3, SiO2, TiO2. Jsme schopni připravit tyto vrstvy: Al, Al__2__O3, AlN, Si, SiO2, Si__3__N4, Mo, Ni, NiN__x__, TiO2, Ti, Ti__3__N4, TiN__x__, Ag, Nb, NbN, Zr, ZrN, W, ITO (90%In + 10%Sn), C, C:N, Y__2__O3.

Z výše uvedených materiálů jsme schopni deponovat i multivrstvy. Deponujeme multivrstvové molybden/křemíkové systémy, které mohou být použity pro rentgenové záření v rozmezí vlnových délek od 12 nm do 30 nm.

Pro charakterizaci odolnosti tvrdých otěruvzdorných nanokompozitových a multivrstvových povlaků a monovrstev, určených pro dynamická zatížení, používáme dynamický rázový test.